Печь для выращивания нанопроводов OTF-1200X-4-NW CVD представляет собой специализированное оборудование для химического осаждения из паровой фазы, предназначенное для синтеза различных типов нанопроводов на подложках диаметром до 3 дюймов. Эта усиленная модель отличается компактными размерами при сохранении всех необходимых функциональных возможностей для проведения высокоточных исследований и мелкосерийного производства наноматериалов.
Конструкция печи включает две независимые зоны нагрева: основную CVD-камеру и дополнительный предварительный нагреватель, расположенный на левом фланце. Преднагреватель обеспечивает подготовку газовых и жидких прекурсоров перед их подачей в реакционную зону. Система оснащена подвижным кварцевым держателем образцов, что значительно упрощает загрузку и выгрузку подложек. Для контроля процесса используется прецизионный PID-регулятор с возможностью программирования до 30 температурных сегментов и опциональным управлением через компьютер. Печь имеет два независимых газовых ввода с возможностью смешивания потоков через Т-образное соединение. Установка требует подключения к вытяжной системе и газовым баллонам (приобретаются отдельно), а также обязательного заземления.
OTF-1200X-4-NW CVD идеально подходит для научных исследований и разработок в области нанотехнологий, обеспечивая воспроизводимые условия для выращивания углеродных нанотрубок, кремниевых нанопроводов и других одномерных наноструктур.
| Модель | OTF-1200X-4-NW (усиленная модель) | |
| Размеры рабочего стола (мм) | 1600 х 600 х 700 | |
| Нагрузка на стол (кг) | ≥150 | |
| Внешний диаметр кварцевой трубки (мм) | 110 | |
| Внутренний диаметр кварцевой трубки (мм) | 102 | |
| Длина кварцевой трубки (мм) | 381 | |
| Зона нагрева CVD-печи (мм) | 400 | |
| Зона нагрева преднагревателя (мм) | 150 | |
| Максимальная температура CVD-печи (до 2 ч) (°С) | 1100 | |
| Диапазон непрерывной работы CVD-печи (°С) | 200-1000 | |
|
Температурный диапазон преднагревателя (°С) |
0-500 | |
| Максимальная скорость нагрева/охлаждения (°С/мин) | 10 | |
| Точность регулирования температуры (°С) | ±1 | |
| Тип термопары | K-типа | |
| Диаметр держателя образца (дюймы) | 3 (76 мм), кварцевый | |
| Правый фланец | Встроенный держатель, кварцевый экран, KF25 + водяное охлаждение | |
| Левый фланец - ввод газа | 2 независимых порта, 1/4 дюйма | |
| Функция газовой смеси | T-образное соединение нагретого и ненагретого потоков | |
| Покрытие внутренней камеры | Высокотемпературное покрытие из оксида алюминия | |
| Управление температурой | PID-контроллер с автотюнингом, до 30 программных сегментов | |
| Дополнительное управление (опция) | Управление с ПК через ПО | |
| Условия эксплуатации | Высота (м) | ≤1000 над уровнем моря |
| Температура (°С) | 25 ± 15 | |
| Влажность (%/Rh) | 55 ± 10 | |
| Подача воды | Не требуется | |
| Вытяжная система | Требуется | |
| Заземление | Обязательно | |
| Подача газа | Требуется (газовый баллон, приобретается отдельно) | |
| Номинальная мощность (кВт) | 3 | |
| Автомат защиты (требуемый) (А) | 20 | |
| Сертификация | CE | |
| Напряжение (В) / Частота (Гц) | 220, 1 фаза / 50-60 | |
| Габаритные размеры установки (мм) | 1200 х 450 х 510 | |
| Масса установки (кг) | 100 | |
Получив вашу заявку на лизинг, мы отправим ее на рассмотрение всем лизинговым компаниям, с которыми мы сотрудничаем. Вам останется лишь выбрать наиболее подходящее предложение.